标签：光刻技术
EUV光刻机“秘史”！
光刻技术作为半导体制造的核心工艺，其发展历程直接推动了摩尔定律的实现。从20世纪70年代至今，晶体管尺寸从约10000纳米缩小至20-60纳米，这一突破主要依赖...
EUV光刻机，正在被颠覆？
芯片制造行业正面临颠覆性变革的临界点。传统技术路径依赖导致现有企业陷入创新困境，即使像晶圆厂照明颜色这样的微小改变也难以实施。这种保守主义源于对技...
一个辍学生，同时挑战ASML和台积电
过去十年，半导体生产依赖荷兰ASML公司生产的庞大光刻机，这些机器在价值250亿美元的无菌工厂内将图案蚀刻到硅晶片上，对智能手机和人工智能芯片至关重要。然...
超600家半导体企业齐聚深圳，同期论坛议程公布
第二届湾区半导体产业生态博览会（湾芯展2025）将于2025年10月15日至17日在深圳会展中心（福田）举办。展览面积达6万平方米，汇聚600余家半导体企业，预计吸...
一种“新型”的光刻技术
过去五年，全球半导体制造的核心焦点集中在光刻机的地缘政治博弈上。ASML的EUV光刻系统成为5nm以下先进制程的唯一通行证，其高达3亿美元的造价和45万个零件的...
一场知识挑战赛，打开ASML的“全景光刻”黑科技宇宙
光刻技术作为芯片制造的核心工艺，在半导体产业中占据着至关重要的地位。ASML不仅以其光刻机闻名，更构建了一套覆盖前后工序的全景光刻解决方案，包括硬件模...
基辛格，投身EUV光刻
前英特尔CEO帕特·基辛格在离开英特尔后，加入了EUV光源初创公司xLight，担任执行董事长。xLight致力于通过粒子加速器技术革新极紫外（EUV）光刻技术，以解决...
EUV光刻机争夺战，风云突变
光刻机技术是半导体领域的核心，从DUV到EUV再到High-NA EUV光刻机的发展，不断推动着芯片制造的精度和效率。ASML的High-NA EUV光刻机作为目前最先进的芯片制...
对话纳米压印技术发明人周郁：用变革性的新技术突破光刻瓶颈！
纳米压印技术（Nanoimprint Lithography, NIL）自20世纪90年代中期问世以来，为微电子制造及纳米制造领域带来了革命性变革。这种技术通过机械压印而非传统光...
ASML的称霸之路
在20世纪80年代初，荷兰小镇费尔德霍芬因邻近的工业中心埃因霍温而受益，后者因飞利浦公司而繁荣。飞利浦的技术创新推动了费尔德霍芬的工业活动和技术专长，...
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