标签：光刻胶
韩国半导体，猛攻日本腹地
日本在半导体上游材料及设备领域长期主导，韩国正借助 AI 浪潮突围。从三星电机与 LG 巨资豪赌 FC-BGA，到 MLCC 市场的步步紧逼，再到光刻胶与核心设备领域的...
EUV光刻，关键一环
极紫外（EUV）光刻技术是制造先进芯片的核心技术，但其发展面临光刻胶材料的关键挑战。传统化学放大光刻胶（CAR）因EUV光子能量高、吸收率低而不再适用，需开...
EUV技术，前景光明
人工智能芯片需求的指数级增长正推动半导体制造技术面临前所未有的挑战，其中极紫外（EUV）光刻技术成为制约产能扩展的核心瓶颈。AI加速器、GPU和高性能CPU对...
颇尔新加坡工厂投产：支持亚太地区先进芯片制造
随着芯片制造工艺的持续微缩化，对过滤器的需求日益增长。半导体器件特征尺寸的减小，使得芯片制造过程中对水、化学品、溶剂和气体的纯度要求极高，任何亚微...
