标签：工艺优化
0.7nm芯片的晶体管
互补型场效应晶体管（CFET）器件架构有望在逻辑技术路线图中取代环栅（GAA）纳米片晶体管，其中单片CFET（mCFET）因干扰最小、可快速落地被视为关键方向。它...
低频噪声测试：把看不见的问题看清楚
低频噪声已成为半导体行业面临的关键挑战之一，随着晶体管尺寸进入纳米级别，单个陷阱对器件电流的扰动愈发显著。这种噪声主要包括闪烁噪声、随机电报噪声、...
半导体行业的“良率之殇”
在后摩尔时代，半导体行业面临良率管理的严峻挑战。随着芯片复杂度和晶体管密度的增加，良率管理难度呈指数级增长，特别是对追求先进制程的晶圆厂来说，良率...
