标签：极紫外

二维材料，关键突破，替代硅倒计时？

imec联合ASML与台积电共同展示了一种新型且可扩展的300毫米集成方案，用于制造基于二维过渡金属二硫化物材料的n型和p型场效应晶体管。该方案首次成功演示了接...

AIGC动态

2周前

摩尔定律指出，芯片上的晶体管数量大约每两年翻一番，而光刻分辨率的提升是实现这一目标的关键。随着光源波长的缩短，EUV（极紫外）光刻技术应运而生，其波长...

AIGC动态

2年前 (2024)