标签：电子束直写

一种“新型”的光刻技术

过去五年，全球半导体制造的核心焦点集中在光刻机的地缘政治博弈上。ASML的EUV光刻系统成为5nm以下先进制程的唯一通行证，其高达3亿美元的造价和45万个零件的...

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7小时前